한국나노분석랩

Ion mill CP(Cross Section Polisher) - 이온밀링 장비 소개 블로그 바로가기

안녕하세요.

“분석에 신뢰를 더하다”

반도체 시험분석 기술 전문 기업 한국나노분석랩입니다.

저희 한국나노분석랩은 Ion Mill CP(Cross Section Polisher) 장비를 기반으로 정밀 단면 가공 및 고해상도 관찰 서비스를 제공하고 있습니다.

Ion mill CP(Cross Section Polisher)은 섬세하고 정밀한 단면 가공을 통해 연마 흔적을 최소화하며, 기술이 고도화된 시료에서도 구조 및 불량 현상을 보다 정확하게 확인할 수 있도록 돕는 장비입니다.

Ion mill CP(이온밀링)의 주요 기술 항목은 다음과 같습니다

.• Cross-section Milling : 단순 Broken 및 Cross-section 가공을 통해 분석이 어려운 부드러운 재료, 또는 반도체 Package 재료의 정밀한 단면 가공 기술

• Wide Area Milling : Wide Milling Holder를 활용해 단면 가공 폭 8mm, 깊이 1mm까지 확장 가공 기술

• Flat Milling : Cross-section Polishing 과정에서 발생된 오염이나 스크래치를 제거하고, 거칠어진 표면을 매끄럽게 처리하는 가공 기술

CP 장비 도입을 통해 대면적 단면 시료의 시편 제작 및 분석 과정에서 발생하던 어려움을 보완하여, 보다 정밀하고 신뢰도 높은 분석 기술 서비스를 제공할 수 있게 되었습니다.

앞으로도 더욱 정확한 분석을 제공해 드릴 것을 약속드리며, 한걸음 한걸음 나아가 더욱 발전된 모습으로 고객들을 찾아 뵙겠습니다.

감사합니다.